应用行业：

半导体行业用超纯水、半导体芯片冲洗、电脑主板冲洗用水、5G滤波器冲洗用。

       随着随着社会科技的发展电子、军工、精密仪器、 仪表精度要求越来越高，生产工艺要求及用水水质标 准更加严格。在电子行业的产品生产中需要用到的水 一般是纯水、超纯水，比如线路板、集成电路、 液晶 显示器、导电玻璃、电池（蓄电池）、显像管、光通 信、电脑元件、电容器、洁净产品及各种元器件等， 电子行业生产工艺用纯水基本是15-18MΩ﹒cm范围 的水质要求

工艺流程 

1. 传统制水工艺：

（预处理+阴阳混床） CWS-->MMF-->ACF-->KCF-->净水箱-->混床(复床)-->纯水 箱

-->纯水输送泵-->精密过滤-->用水点 

2.极减制水工艺：

（预处理+一级反渗透+阴阳混床） CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->一级RO反渗透系统-->混床(复 床)-->纯水箱-->纯水输送泵-->精密过滤-->用水点 

3.简配制水工艺：

（预处理+一级反渗透+EDI电除盐系统+抛光混床 系统） CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->

一级RO反渗透系统-->EDI电 除盐系统-->纯水箱->纯水输送泵-->抛光混床系统-->精密过滤--> 用水点 

4.正规制水工艺：

（预处理+二级反渗透+EDI电除盐系统+抛光混床） CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO-->2-RO--

>EDI-->纯 水箱->纯水输送泵-->抛光混床系统-->精密过滤-->用水点 

5.高品质水制水工艺：

（预处理+二级反渗透+EDI电除盐系统+纯水 脱氧系统+抛光混床+生物膜过滤） CWS---> MMF-->

ACF-->KCF-->1-RO系统-->2-RO系统-- >EDI-->MDG-->TOC-UV-->抛光混床系统-->生物膜过滤系统--> 用水点

性能特点 

1、根据纯水房面积，物流通道量身定制、一体化设计、节约占地面积，外 观精致美观，操作简单方便。 

2、纯水制备系统设计，充分考虑突发情况、应急情况、极端环境因素，确 保系统运行稳定。 

3、核心工艺采用RO反渗透装置，最大程度确保系统稳定运行，减少客户实 际使用过程中因故障导致无水可用的难题。

4、反渗透系统采用进口超低压反渗透膜元件，脱盐率高，运行稳定、使用 寿命长。

5、设备整体控制系统采用：控制系统集中、仪表系统集中，自动运行，自 动维护，无需配置专门人员值守，操作简单方便。

6、主要电器元件采用法国施耐德，保质保量，并按最佳配置设计。 

7、制备系统采用人性化自动控制，可根据业主实际生产时间，设置RO反渗 透系统自动冲洗维护时间，确保生产车间正常工作时，不会因水系统设备需 要自动维护导致车间无水可用。