超纯水设备
超纯水设备
产品概述
半导体、微电子、光伏等行业随着产品工艺越来越先进、生产中使用的超纯水也是产品合格率的重要组成部分。因此对纯水水质要求也越来越高,比如单晶硅、多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、 液晶显示器、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器、5G产品及各种元器件等生产工艺用纯水基本上是18.25MΩ﹒cm的水质要求。
产品参数
产品水质电阻率>18MΩ·CM;(以在线仪表监测为准;温度25℃)
产品工艺多介质过滤器+活性炭过滤器+软化器+RO反渗透系统+2RO反渗透系统+EDI装置
控制方式自动控制


备注:恒松超纯水设备系统主要采用多介质过滤器+活性炭过滤器+RO反渗透+2RO反渗透+电去离子(EDI)+抛光混床 工艺,有效去除水中各种盐份及杂质,进一步提升水质,使出水达到用水工艺要求。


产品服务

工艺流程

1. 传统制水工艺:(预处理+阴阳混床)

     CWS-->MMF-->ACF-->KCF-->净水箱-->混床(复床)-->纯水箱-->纯水输送泵-->精密过滤-->用水点 

2.极减制水工艺:(预处理+一级反渗透+阴阳混床)

   CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->一级RO反渗透系统-->混床(复床)-->纯水箱-->纯水输送泵-->精密过滤-->用水点

3.简配制水工艺:(预处理+一级反渗透+EDI电除盐系统+抛光混床系统)

   CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->一级RO反渗透系统-->EDI电除盐系统-->纯水箱->纯水输送泵-->抛光混床系统-->精密过滤-->用水点

4.正规制水工艺:(预处理+二级反渗透+EDI电除盐系统+抛光混床)

    CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO-->2-RO-->EDI-->纯水箱->纯水输送泵-->抛光混床系统-->精密过滤-->用水点

5.高品质水制水工艺:(预处理+二级反渗透+EDI电除盐系统+纯水脱氧系统+抛光混床+生物膜过滤)

    CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO系统-->2-RO系统-->EDI-->MDG-->TOC-UV-->抛光混床系统-->生物膜过滤系统-->用水点


应用行业
生物制药用水方案

医疗器械用水是医疗器械行业必不可少的高净度卫生水,主要用于清洗、配液等生产工艺过程。净得瑞的水系统在设计时综合考虑了管理便捷性,对取样点、数据点检、耗材更换等进行了合理设计,通过管理面板查看系统原理及水质数据,实现运行稳定和水质安全。

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微电子行业用水方案

可选择消毒方式:活性炭巴 氏消毒、CIP清洗系统、分配系统臭氧灭菌、分配系统巴氏消毒、分配系统纯蒸汽灭菌。备注:净得瑞水系统根据用户需求(URS)定制。

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半导体行业用水方案

可选择消毒方式:活性炭巴 氏消毒、CIP清洗系统、分配系统臭氧灭菌、分配系统巴氏消毒、分配系统纯蒸汽灭菌。备注:净得瑞水系统根据用户需求(URS)定制。

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新能源行业用水方案

超纯水设备使用预处理、反渗透技术、EDI抛光混床以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎全部去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。

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化工行业用水方案

提供化工行业生产用水处理整套解决方案

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食品酒业用水方案

可选择消毒方式:活性炭巴 氏消毒、CIP清洗系统、分配系统臭氧灭菌、分配系统巴氏消毒、分配系统纯蒸汽灭菌。备注:净得瑞水系统根据用户需求(URS)定制。

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